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真空充氮烤箱

真空充氮烤箱

真空充氮烘箱 真空充氮烤箱

真空充氮烤箱主要應用于各行業如光電、硅晶片、電子芯片、電池、線路板、電子電器、制藥、化工、塑膠、硅膠等真空脫泡處理及真空狀態下烘烤,可充惰性氣體。用于生產車間、實驗室及科研單位測試。。設備由箱體、真空、加熱、充氮、及控制等系統組成。通過多次預抽真空,充氮加熱循環進行,既能達到表面干燥的效果,又能夠有效的防止硅片的氧化和雜質的擴散

了解產品詳細信息

品名 高溫充氮真空烤箱
型號 DBGTCD-ZK-5033T
內容積 300L
內箱尺寸 550mm×550mm×1000mm(W*D*H)
外形尺寸 900mm×1100mm×1500mm (W*D*H) 預估
溫度范圍 RT+10~+200℃  
溫度分辨率 0.1℃
恒溫波動度 ≤±1℃(空載,恒定狀態時,可修正)
設備總功率 2.4KW
升溫速率 3℃/min
抽氣速率 21 m3/h
氮氣流量 5~100L/min
極限真空度 ≤133pa
參考標準 GB/T2423.2-2008(IEC68-2-2)試驗B高溫試驗方法
GJB150.3A-2009(MIL-STD-810F-2000)高溫試驗
GB/T 29251-2012 《真空干燥箱》
GBT32218-2015 《真空技術 真空系統漏率測試方法》
程序附加 自動抽真空、充氮氣,試驗結束加氮氣冷卻